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System 4 放射温度計
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SOLOnet 放射温度計
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FG - ガラスフォアハース向け放射温度計
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SP - スプレーチャンバー向け放射温度計
VDT+ - 蒸着(Vapor Deposition
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LWIR-640 Special Applications
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固定炉サーマルイメージャー
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NIR-B656 /2K 炉内監視カメラ・分析システム
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IMAGEPro
IMAGEPro - バージョン2.4.2 - 無料トライアル
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IMAGEPro AM (資産の監視)
ImagePro Glass
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SOLOnetおよびIQコンフィギュレータ
SOLOnetおよびIQコンフィギュレータ - バージョン2.0.2 - 無料ダウンロード
Landscan Windows制御および分析(WCA)
Landscan WCA Software V5.11.2
FlowPro
Cyclopsロガー(PCおよびMobile)
CyclopsロガーMobile - バージョン2.3.0 - 無料ダウンロード
CyclopsロガーPC - バージョン2.1.2 - 無料ダウンロード
産業別-製品用途
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System4 放射温度計
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System 4 放射温度計
高精度のシングルスポット型の放射温度計は、広範囲の温度、動作波長およびアプリケーションにわたって優れた柔軟性を提供します。
仕様
+
技術的な詳細
標準温度計
モデル
範囲
波長
応答時間
(1)
精度
(2)
一般用、金属、ガラス、耐火物
M1 450/1000C
450~1000 °C
1µm
5 ms
0.4%K
M1 850/1850F
850~1850 °F
1µm
5 ms
0.4%K
M1 600/1600C
600~1600 °C
1µm
5 ms
0.4%K
M1 1100/2900F
1100~2900 °F
1µm
5 ms
0.4%K
M1 800/2600C
800~2600 °C
1µm
5 ms
0.7%K
M1 1500/4700F
1500~4700 °F
1µm
5 ms
0.7%K
一般用、金属およびガラス加工
M2 300/1100C
300~1100 °C
1.6 µm
5 ms
0.25%+ 1K
M2 600/2000F
600~2000 °F
1.6 µm
5 ms
0.25%+ 1K
明るく酸化された金属表面または軽く酸化された金属表面
M4 50/250C
50~250 °C
2.4 µm
100 ms
3K
M4 150/500F
150~500 °F
2.4 µm
100 ms
3K
M4 150/550C
150~550 °C
2.4 µm
100 ms
4K
M4 300/1000F
300~1000 °F
2.4 µm
100 ms
4K
一般用、低温、金属、ガラス、食品、紙およびテキスタイル
M6 0/300C
0~300 °C
3~5 µm
100 ms
0.3%+ 2.5K
M6 50/600F
50~600 °F
3
~5 µm
100 ms
0.3%+ 2.5K
M6 100/700C
100~700 °C
3
~5 µm
100 ms
0.3%+ 2K
M6 200/1300F
200~1300 °F
3
~5 µm
100 ms
0.3%+ 2K
プラスチック薄膜
M7 25/375C
25~375 °C
3.43
µm
100 ms
3K
M7 75/700F
75~700 °F
3.43
µm
100 ms
3K
食品、織物、紙、プラスチック、ゴム、木材、塗料およびセラミック
M8 0/1000C
0~1000 °C
8~14
µm
100 ms
1%+ 1K
M8 30/1830F
30~1830 °F
8~14
µm
100 ms
1%+ 1K
比温度計、可変輻射率、目標の遮蔽、部分的に満たされた視野
R1 600/1600C
600~1600 °C
0.85~1.1
µm
100 ms
0.65%K
R1 1100/2900F
1100~2900 °F
0.85~1.1
µm
100 ms
0.65%K
R1 1000/2600C
1000~2600 °C
0.85~1.1
µm
100 ms
1.1%K
R1 1800/4700F
1800~4700 °F
0.85~1.1
µm
100 ms
1.1%K
(1)
- 95%のステップ変更までの時間
(2)
- ITS90の精度
(3)
- 75° C / 167 ° Fを超える
(4)
- ガラスの強化のために最適化 = 630 °Cで3k
光ファイバ温度計
モデル
範囲
波長
応答時間
(1)
精度
(2)
一般用、金属、ガラス、耐火物
M1 600/1600CYL
600~1600 °C
1 µm
5 ms
0.4%K
M1 1100/2900FYL
1100~2900 °F
1 µm
5 ms
0.4%K
M1 800/2600CYL
800~2600 °C
1 µm
5 ms
0.7%K
M1 1500/4700FYL
1500~4700 °F
1 µm
5 ms
0.7%K
一般用、金属およびガラス加工
M2 300/1100CYL
300~1100 °C
1.6 µm
5 ms
0.25%K + 1K
M2 600/2000FYL
600~2000 °F
1.6 µm
5 ms
0.25%K + 1K
比温度計、可変輻射率、目標の遮蔽、部分的に満たされた視野
R1 600/1600CYL
600~1600 °C
0.85~1.1 µm
100 ms
0.65%K
R1 1100/2900FYL
1100~2900 °F
0.85~1.1
µm
100 ms
0.65%K
R1 1000/2600CYL
1000~2600 °C
0.85~1.1
µm
100 ms
1.1%K
R1 1800/4700FYL
1800~4700 °F
0.85~1.1
µm
100 ms
1.1%K
Y - レーザターゲティングシステムが使用可能であることを示します
(3)
- 75 °C / 167 °Fを超える
標準光学仕様
焦点範囲
0.5m/19.7インチ~無限(Vバージョン)
0.35~1.0m/13.8~39.4インチ(Sバージョン)
照準
6°目盛りで定義された視野
1.8X 倍率
30mm/1.2インチアイレリーフ(メガネ付き/メガネなし)
検出されたエネルギーの少なくとも98%が目盛りで定義された領域内にあることが保証されています
光ファイバ光学仕様
焦点範囲
スペーサーで決定
なし
500mm/19.69インチ
青
250mm/9.84インチ
赤色
100mm/3.94インチ
ライトガイドの長さ
1.0m/3ft 3インチ、 2.0m/6ft 6インチおよび3.5m/11ft 6インチ
環境仕様
振動
3g - 60~300Hz、0.5mm - 10~60Hz
湿度
0~99%結露なし
CE
EN 50-082-2 (免除)
EN 50-081-1 (放射)
密封
IP54要件へ
光ファイバ:光学ヘッド
200 °C / 392 °F最高周囲温度
ライトガイド
200 °C / 392 °F最高周囲温度
オプションのエクストラ
標準ボディ
クローズアップレンズ
涙腺
レーザターゲティング
S4T100 A/0813
詳細な技術仕様については、下記のドキュメントセクションの特定の製品パンフレットを参照してください。
ドキュメンテーション
+
パンフレット
(
4
)
+
System 4液体金属パンフレット(EN)
System 4目標軌道温度計ユーザ補足(EN)
System 4温度計データシート(EN)
System 4温度計取付およびアクセサリデータシート(EN)
ユーザーおよび設置ガイド
(
13
)
+
大型コネクタ密封グランド設置ガイド発行番号810484(EN)
System 4 DPU設置ガイド発行番号198.023(EN)
System 4放射率向上装置設置ガイド発行番号198073(EN)
System 4光ファイバ温度計設置ガイド発行番号198.002(EN)
System 4光ファイバ温度計レーザアライメントユーザーガイド発行番号198.011(EN)
System 4光ファイバ温度計取付ガイド設置ガイド発行番号198.005(EN)
System 4光ファイバ温度計ユーザーガイド第10号発行番号198007(EN)
System 4 Landmark Technic設置ガイド発行番号198.212(EN)
System 4 R4温度計ユーザーガイド発行番号807382(EN)
System 4 SGx-SFxクローズアップレンズユーザーガイド発行番号198.042(EN)
System 4温度計設置ガイド第13号発行番号198.004(EN)
System 4温度計設置ガイド第7号発行番号198.001(EN)
System 4温度計ユーザーガイド第10号発行番号198.006(EN)
技術図面
(
1
)
+
システム4のインストールCADファイルと技術図面 EN
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